回收氮化硅废砖厂家常用解决方案 佰润商贸有限公司

Si3N4的使用温度一般不超过1300°C

氮化硅的很多性能都归结于此结构。纯Si3N4为3119，有α和β两种晶体结构，均为六角晶形，其分解温度在空气中为1800℃，在110MPa氮中为1850℃。Si3N4 热膨胀系数低、导热率高。热压烧结的氮化硅加热到l000℃后投入冷水中也不会。在不太高的温度下，Si3N4 具有较高的强度和抗冲击性，但在1200℃以上会随使用时间的增长而出现破损，使其强度降低，在1450℃以上更易出现疲劳损坏，所以Si3N4 的使用温度一般不超过1300℃。Si3N4陶瓷材料作为一种优异的高温工程材料，能发挥优势的是其在高温领域中的应用。

氮化硅结合碳化硅砖的特点

氮化硅融合碳化硅砖特性是以Si3N4为融合剂。Si3N4以纤维状或纤维结晶体存有于SiC晶体中间，是一种关键的新式耐火材料。一般含碳化硅70%～75%，氮化硅18%～25%。具备优良耐腐蚀工作能力，1400℃抗折强度达50～55MPa，显孔隙率15%。热膨胀系数(4.5～5.0)×10-2℃-1。氮化硅结构陶瓷具备耐热性高。因为氮化硅是键强高的共价化合物，并在气体里能产生金属氧化物防护膜，因此还具备优良的有机化学可靠性。氮化硅融合碳化硅制品：氮化硅融合碳化硅原材料是一种耐火材料，关键商品有氮化硅融合碳化硅辐射管、氮化硅融合碳化硅砖等。1、氮化硅融合碳化硅制品，材质硬实，硬度约为9，在非金属材质中归属于强度原材料，仅次金钢石。2、氮化硅融合碳化硅制品的常温下抗压强度高，在1200-1400℃高溫下，基本上维持与常温下同样時间的抗压强度和强度。3、热膨胀系数小，对比碳化硅等产品导热系数高，不容易造成焊接应力，具备优良热震可靠性，使用期长。常压烧结法（PLS)在提高烧结氮气氛压力方面，利用Si3N4分解温度升高（通常在N2=1atm气压下，从1800℃开始分解）的性质，在1700———1800℃温度范围内进行常压烧结后，再在1800———2000℃温度范围内进压烧结。4、商品广泛运用于钢材、稀有金属、化工厂装饰建材等多种多样制造行业。

硅粉中含有许多杂质，如Fe，Ca，Aì，Ti等。Fe被认为是反应过程中的催化剂。它能促进硅的扩散，但同时，也将造成气孔等缺陷。Fe作为添加剂的主要作用：在反应过程中可作催化剂，促使制品表面生成SiO2氧化膜；形成铁硅熔系，氮溶解在液态FeSi2中，促进β-Si3N4的生成。但铁颗粒过大或含量过高，制品中也会出现气孔等缺陷，降低性能。一般铁的加入量为0～5%。Al，Ca，Ti等杂质，易与硅形成低共熔物。适当的添加量，可以促进烧结，提高制品的性能。碳化硅制品大部分都是黑色的，在窑炉上使用以后，由于出现氧化情况，表皮会呈现发白的氧化层，有些氧化严重的碳化硅制品砸开以后，断面已经看不出碳化硅颗粒了，整个断面都是灰色或者黄色，有些还会出现红色的现象。