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发布时间:2022-01-28 11:37:00 作者:佰润商贸
废旧碳化硅和废旧氮化硅有什么区别?
但是如果仔细看的情况下,废旧碳化硅和废旧氮化硅还是可以区分开的,一般氮化硅制品的颜色是灰白色,体积密度也比碳化硅制品的大。
区分废旧碳化硅和废旧氮化硅主要是为了合理的定价,无论是废旧碳化硅还是废旧氮化硅,我们在回收的时候,主要是看碳化硅的含量的,一般碳化硅的含量越高,我们的回收价格就越高,如果废旧碳化硅制品的氧化程度比较高,那么碳化硅含量就很低了,回收价格也就会下降。这里的氮化硅氮硅原子数目比并不是严格的4:3,而是根据工艺条件的不同而在一定范围内波动,不同的原子比例对应的薄膜的物理性质有所不同。
Si3N4陶瓷材料作为一种优异的高温工程材料
Si3N4结构陶瓷做为一种出色的高温施工材料,能发挥特长的是其在高温行业中的运用。Si3N4将来的发展前景是:⑴充分运用和运用Si3N4自身所具备的出色特点;⑵在Si3N4粉末状烧结时,开发设计一些新的助熔剂,科学研究和操纵目前助熔剂的成份;但是,过高的焚烧温度不仅会对炉衬材料的选择和工艺厚度提出更高的要求,还会增加焚烧产物中氧化氮的组分含量上升,造成二次污染。⑶改进制粉、成形和烧结加工工艺;⑷研发Si3N4与SiC等原材料的复合化,便于制得大量的高分子材料。S它是用硅粉作原材料,先用一般成形的方式制成需要的样子,在N2以及1200℃的高温下开展基本氮化,使在其中一部分硅粉与氮反映转化成氮化硅,这时候全部坯体早已具备一定的抗压强度。随后在1350℃~1450℃的高温炉中开展二次氮化,反映成氮化硅。用压合烧结法能制得做到基础理论相对密度99%的氮化硅。
反应烧结法(RS)是采用一般成型法
反应烧结法( RS)
是采用一般成型法,先将硅粉压制成所需形状的生坯,放入氮化炉经预氮化(部分氮化)烧结处理,预氮化后的生坯已具有一定的强度,可以进行各种机械加工(如车、刨、铣、钻).。然后,在硅熔点的温度以上;在不太高的温度下,Si3N4具有较高的强度和抗冲击性,但在1200℃以上会随使用时间的增长而出现破损,使其强度降低,在1450℃以上更易出现疲劳损坏,所以Si3N4的使用温度一般不超过1300℃。将生坯再一次进行完全氮化烧结,得到尺寸变化很小的产品(即生坯烧结后,收缩率很小,线收缩率< 011% ). 该产品一般不需研磨加工即可使用。反应烧结法适于制造形状复杂,尺寸正常的零件,成本也低,但氮化时间很长。
如果要在半导体基材上沉积氮化硅,有两种方法可供使用:
利用低压化学气相沉积技术在相对较高的温度下利用垂直或水平管式炉进行。
等离子体增强化学气相沉积技术在温度相对较低的真空条件下进行。
氮化硅的晶胞参数与单质硅不同。因此根据沉积方法的不同,生成的氮化硅薄膜会有产生张力或应力。特别是当使用等离子体增强化学气相沉积技术时,能通过调节沉积参数来减少张力。
先利用溶胶凝胶法制备出二氧化硅,然后同时利用碳热还原法和氮化对其中包含特细碳粒子的硅胶进行处理后得到氮化硅纳米线。硅胶中的特细碳粒子是由葡萄糖在1200-1350℃分解产生的。
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